赵龙腾看着赵岂年，呵呵一笑，并未说什么，而是站了起来，给自己泡了壶大红袍！
这玩意，赵龙腾金贵的很，从来不舍的给赵岂年喝！
“你小子真是神了，居然能用计算法推算出用水可以推进光刻机的进步！”
“虽然有点差异，但是我们成功了！”
赵岂年早就想好了的说辞，这一次终于派上用场了！
“这可不是我计算的，是我花高薪聘请了国外的数学家帮我计算的！”
“油浸法在光刻机领域一直都有使用，我就想到了水是不是也可以，他们都可以折射光！”
“然后，我就请人以油浸法的模型推算了水的可行性！”
“我最多就是想到了，灵光一现吧…”
赵龙腾笑了笑，没有发表看法，这个说法他实际上是接受的，不然真的解释不了！
光刻机从出现开始，到现在，光源被卡在 193nm 无法进步长达 20 年。
这就是著名的 ArF 准分子激光，包括近视眼手术在内的多种应用都应用这种激光！
到现在，相关激光发生器和光学镜片等都比较成熟。
就是到后来，市面上用的所有手机电脑主芯片仍旧是 193nm 光源光刻出来的。
光源卡住了，想让精度更高，只能从其他方面入手。
伴随着光源被卡主，光刻机的精度，其实也同样被卡住！
193纳米是一个分界岭！
全球高科技领域，甚至是米国政府，都插手这个事情，组成了联盟！
但是，尝试了很多方法，提出了很多解决方案，依旧没有成功！
最后，一切都败给了工程上最简单的解决办法，在晶圆光刻胶上方加 1mm 厚的水。
水可以把 193纳米的光波长折射成 134纳米！
浸入式光刻成功翻越了 157纳米大关，直接做到半周期 65纳米！
加上后来不断改进的高 NA 镜头、多光罩、波段灵敏的光刻胶等技术，浸入式 193纳米光源的光刻机一直做到后来的7纳米！
而按照原来的历史，2002 年浸入式 193纳米的方案才会被提出，随后 ASML 在一年之后才开发出样机！
而现在，还没到2002年！！
光刻机跨越193纳米，是无数次尝试的结果！
赵岂年的存在，让这个方案提前了两年！
同时，在赵岂年大量资金的推动下，国内的研究和开发要提前两年！！
“赵叔，研究进展如何？”
赵龙腾哈哈一笑，心中的兴奋一下子被释放了出来！
“我们经过近一年的研究，成功产出了157纳米的光刻机！”
赵岂年哗一声站了起来，有点懵了！
“怎么……怎么这么快？”
赵龙腾：“哈哈……我们中国人在科研上，什么时候比外国人差？”
“我们不都追赶上来了？”
“况且，这一次，在光刻机上，我们处在同一个起跑线，最多比国外落后一点点！！”
“有了解决了方案，超过他们非常正常！！”
赵岂年也抑制不住自己内心的激动，这离他称霸光刻机领域又前进了大大的一步！
芯片产品需要至少 1-3 年时间，由前后道多家厂商通力磨合，才能产出优秀的芯片！
一旦提前，早量产，就比意味着多了更多时间去改善问题和提高良率。
因此，光刻机领域，是赢家通吃！
只要领先一步，就至少领先了三年！！